已经不是什么秘密，做出深紫外光光刻机的原理样机很多公司都是能够做到的，但是在光源、镜组、光刻掩膜光罩、光刻机方面却是存在着大量需要攻克的工程技术问题，但是国内外很多研究机构和公司企业对这些难关的解决方案正在研究当中，一旦将这些难题解决，极紫外光刻技术在大规模集成电路生产应用过程中就不会有原理性的技术难关了。

杨杰深知这是个无比浩大的工程，光是靠华兴集团公司也是没办法做到的，只能和公司的这些供应商联手去解决了。

前世的时候，因为极紫外光光刻机的技术难度、需要的投资金额太高，另外两大微影设备厂──霓虹国的尼康和佳能都是放弃开发，艾斯摩尔公司成为半导体业能否继续冲刺下一代先进制程，开发出更省电、运算速度更快的电晶体的最后希望。

现在杨杰是希望自己旗下的瑞星科技公司成为这个最后的希望，能够让国内的半导体产业继续在这方面领先。
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